屈折率Si, Si, シリコン

シリコンは地上で2番目に最も共通する要素で、ほとんど全ての非光学半導体部品の元となります。光学的にシリコンはその屈折率と減衰係数が主な重要性となる検出器又は反射体として最も関心を引いています。

以下に表集計された屈折率は、結晶面が111であろうと100であろうとのサンプル表面に露出されます。ドーパントレベルもまたここで考慮される波長範囲(200～2500nm)で屈折率に極僅かな影響を及ぼします。シリコンは酸化環境に晒されると、ほぼ望ましいSiO2の表面層を形成します。シリコン上の非常に薄い膜の厚さ、あるいは屈折率を測定する場合、通常環境で形成される"天然の"酸化被膜が大抵考慮されなければなりません。

典型的なサンプルについてSi波長632.8nmにおける屈折率と吸光係数は以下の通りです。3.88163および0.01896923。以下は、屈折率および吸光係数のファイルです。ダウンロードできないファイルがある場合は、「リクエスト」をクリックして、システム専用のデータファイルをご請求いただけます。

Refractive Index Reference - Handbook of Optical Constants of Solids, Edward D. Palik. Academic Press, Boston, 1985

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