フォトレジストの厚さ測定

F3-sX、Filmetrics F50およびFilmetrics F60-tなどの卓上式のシングルスポットもしくはマッピング測定システムは、単層、多層、さらには自立型フォトレジストフィルムのフォトレジストの厚さとエッチングレートを測定します。 Filmetricsのすべてのモデルは、分光反射率を正確にモデリングすることで、レジストの厚さ（および屈折率）を測定します。 独自の特殊アルゴリズムにより、堅牢な「ワンクリック」解析が可能で、通常は1秒程度で結果が得られます。 SU-8、Dow BCB、その他の厚膜フォトレジストの測定は、Filmetricsのプロダクトラインナップで人気アプリケーションです。

多孔質シリコン薄膜測定

多孔質シリコンは、光学デバイス、ガスセンサー、生物医学デバイスなど、さまざまな用途で広く使用されています。

業界で注目される多孔質薄膜の測定には、層厚と空孔率が含まれます。 一般的に、質量測定などの非破壊的方法を使用して空隙率を測定しますが、この方法の精度は非常に低いです。 Filmetrics^®F50では、マウスを1回クリックするだけで、多孔質シリコンの層厚、インデックス、空隙率を明らかにする独自の分析アルゴリズムが含まれています。

半導体プロセスフィルムの測定

Filmetrics^® の製品ラインナップは、非金属半導体プロセスフィルムの厚さと屈折率を測定するための幅広いシステムを提供しています。

Filmetrics F50膜厚マッパーは、膜厚を正確に測定し、ブランケットフィルムのポイントバイポイントを自動的にマッピングします。

当社の特許取得済みの膜厚イメージング技術により、従来の薄膜計測ツールに比べてセットアップが容易になり、レシピが少なくなり、パターン認識がより堅牢になり、コストが大幅に削減されます。

シリコンウェーハおよび膜厚の測定

Filmetrics^®システムには、シリコンウェーハの厚さ測定および膜厚測定用の卓上型、マッピング型、生産用システムが含まれています。一般的に測定されるウェーハ材料には、単一研磨または二重研磨Si（シリコン）、サファイア、溶融シリカ、SiC、LiTaO₃、GaN、ガラスが含まれます。

当社の技術専門家が、さまざまな厚さ範囲のニーズやシングルスポット測定と厚さマッピングの要件など、お客様の厚さ測定要件に合った最適なFilmetricsツールを見つけるお手伝いをいたします。