Messung der Fotolackdicke

Mehrere Einzelpunkt-Tisch- und Mapping-Tools, darunter das F3-sX, das Filmetrics F50 und das Filmetrics F60-t, messen die Fotolackdicke und die Ätzrate von einschichtigen, mehrschichtigen und sogar freistehenden Fotolacken. Alle Filmetrics-Modelle messen die Photoresistdicke (und den Index) durch eine präzise Modellierung der spektralen Reflexion. Spezielle proprietäre Algorithmen ermöglichen eine robuste Analyse mit nur einem Klick, wobei Ergebnisse normalerweise in weniger als einer Sekunde verfügbar sind. Die Messung der Dicke von SU-8, Dow BCB und anderen dicken Fotolacken sind beliebte Anwendungen für die Filmetrics-Produktlinie.

Schichtdickenmessung für poröses Silizium

Poröses Silizium wird in vielen verschiedenen Anwendungen eingesetzt, darunter optische Geräte, Gassensoren und biomedizinische Geräte.

Zu den für die Industrie interessanten Messungen poröser Schichten zählen Schichtdicke und Porosität. Im Allgemeinen werden zerstörungsfreie Methoden wie gravimetrische Messungen verwendet, um die Porosität zu messen, aber die Genauigkeit dieser Methode ist sehr gering. Filmetrics^® F50 bietet einen kostenlosen, einzigartigen Analysealgorithmus, der Schichtdicke, den Index und die Porosität von porösem Silizium mit einem einzigen Mausklick ermittelt.

Messung von Halbleiterprozessfilme

Die Filmetrics^®-Produktlinie bietet eine umfassende Palette von Geräten und Systemen zur Messung der Dicke und des Indexes von nichtmetallischen Halbleiterprozessfilme.

Das Filmetrics F50 Schichtdickenmessgerät misst die Schichtdicke genau und bildet vollflächige Filme automatisch Punkt für Punkt ab.

Unsere patentierte Schichtdickenbildtechnologie ermöglicht eine einfachere Einrichtung, weniger Rezepte, eine robustere Mustererkennung und wesentlich geringere Kosten als herkömmliche Schichtdicken-Messtechnikwerkzeuge.

Messung der Siliziumscheibe und Membrandicke

Die Filmetrics^®-Systeme umfassen Tisch-, Mapping- und Produktionssysteme zur Messung der Dicke von Siliziumscheiben und Membranen. Zu den üblicherweise gemessenen Wafermaterialien zählen einfach oder doppelt poliertes Si (Silizium), Saphir, Quarzglas, SiC, LiTaO₃, GaN und Glas.

Unsere technischen Experten können Ihnen helfen, das beste Filmetrics-Tool zu für die Anforderungen Ihrer Schichtdickenmessung zu finden. Dazu gehören z. B. die Notwendigkeit verschiedener Schichtdickenbereiche oder eine Einzelpunktmessung im Vergleich zu einer Schichtdickenkartografierung usw.