半導体：フォトレジストの厚さ測定

Filmetrics F20、Filmetrics F3-sX、Filmetrics F50、Filmetrics F60-tなどのシングルスポット卓上式システムおよび自動マッピングシステムは、単層および多層のフォトレジストの膜厚とエッチングレートを測定します。 Filmetricsのすべてのモデルは、分光反射率を正確にモデリングすることで、レジストの厚さ（および屈折率）を測定します。 独自の特殊アルゴリズムにより、堅牢な「ワンクリック」解析が可能で、通常は1秒程度で結果が得られます。SU-8、Dow BCB、およびその他の厚膜フォトレジストの膜厚測定は、Filmetricsのプロダクトラインの代表的なアプリケーションです。

シリコンウェーハおよび膜厚の測定

Filmetrics^®システムには、シリコンウェーハの厚さ測定および膜厚測定用の卓上式、マッピング式、生産用システムがあります。一般的に測定されるウェーハ材料には、片面研磨または両面研磨のシリコン、サファイア、ヒューズドシリカ、SiC、LiTaO₃、GaN、ガラスが含まれます。

当社の技術専門家が、さまざまな膜厚範囲、シングルスポット測定、膜厚マッピングなど、膜厚測定の要件に最適なFilmetricsツールの選定をサポートいたします。

液晶ディスプレイ（LCD）

ポリイミド、酸化インジウム錫（ITO）、透明導電性酸化物（TCO）フィルムのセルギャップと厚さを測定します。 包括的なFilmetrics材料のライブラリと高度なモデリングアルゴリズムにより、LCDおよびOLED層の測定に必要な、高度な機能を提供します。

光学コーティングおよび電気光学フィルム

等ハードコート、反射防止コーティング、フィルターの膜厚を測定します。分光反射率とFilmetricsの高度なモデリングアルゴリズムを用いることで、10層以上の層を効果的にモデル化できます。