半導体：アモルファスシリコン（a-Si）および多結晶シリコンの膜厚測定

Filmetrics F54を使用して、アモルファスシリコンおよびポリシリコンの光学定数（nおよびk）を測定します。 このシステムには、マウスを1回クリックするだけで、基板の厚さ、シリコン層の厚さ、および層間のSiO₂の厚さを測定・表示する高度な測定機能が搭載されています。また、Siウェーハの厚さ等のサンプル測定をお試しいただけます。結果は通常、数日以内にご連絡します。

半導体：誘電体特性の測定

誘電体膜を正確に測定することは、エレクトロニクス業界にとって極めて重要です。 Filmetricsの測定システムで測定できる最も一般的な誘電体の測定は次のとおりです。

二酸化シリコンの膜厚：SiO₂膜の膜厚は、当社のFilmetricsシステムにより3nmから1mmの範囲で測定可能です。

窒化シリコン（Si₃N₄）の屈折率：膜厚と併せて窒化シリコンの屈折率を測定することで、Si₃N₄膜の特性評価を数秒で行えます。 誘電体の測定については、弊社までお問い合わせください。またサンプル測定をお試しください。

ディスプレイ：ITO

正確な屈折率値を使用して、酸化インジウム錫（ITO）およびその他の透明導電性酸化物（TCO）の膜厚を測定します。 Filmetricsのシステムは、ポリイミド、ハードコート、液晶、OLED層、発光層、注入層、バッファ層、カプセル化層を含む液晶層を測定できます。

バイオメディカルコーティングの厚さ測定

カテーテルや血管形成術バルーン、ステント、ガイドワイヤー、針、その他のインプラントなど、バイオメディカルアプリケーション用のコーティングの厚さをワンクリックで測定できます。 バイオメディカルデバイスには、腐食からデバイスを保護する特殊なコーティングが施されており、また、組織外傷、感染、拒絶反応などの合併症から保護するコーティングもあります。 ドラッグデリバリーデバイスのコーティング厚の測定も一般的なアプリケーションです。 Filmetricsシステムは、非接触的で事前にサンプル準備を必要としない、迅速で信頼性の高い膜厚測定を提供します。

ディスプレイ：OLED測定

有機発光ダイオード（OLED）は、携帯電話やテレビを含む多くのディスプレイデバイスに使用されています。OLEDディスプレイを構成する多くの薄膜の厚さは非常に重要であり、OLEDの厚さを効果的に測定するには、非接触測定システムが必要です。 当社のF54-UV顕微鏡式自動マッピング膜厚測定システムは、シンプルなプロトタイプデバイスとフルピクセル化されたディスプレイを、安価で堅牢な非接触測定を提供します。 当社のOLED測定装置システムは分光器のため、空気に敏感な材料において発生する化学変化を検出することもできます。 また、OLEDサンプルの膜厚測定をお試し頂けます。

半導体：フォトレジストの膜厚測定

F54顕微鏡式自動マッピング膜厚測定システムは、単層、多層、さらには自立型フォトレジストフィルムのフォトレジストの膜厚とエッチングレートを測定します。 Filmetricsのすべてのモデルは、分光反射率を正確にモデリングすることで、レジストの厚さ（および屈折率）を測定します。 独自の特殊アルゴリズムにより、堅牢な「ワンクリック」解析が可能で、通常は1秒程度で結果が得られます。 SU-8、Dow BCB、その他の厚膜フォトレジストの測定は、Filmetrics製品ラインナップで人気アプリケーションです。

多孔質シリコン薄膜測定

多孔質シリコンは、光学デバイス、ガスセンサー、バイオメディカルデバイスなど、さまざまな用途で広く使用されています。

業界で注目される多孔質薄膜の測定には、層厚と空孔率が含まれます。 一般的に、質量測定などの非破壊的方法を使用して空隙率を測定しますが、この方法の精度は非常に低いです。 Filmetrics^® F54では、マウスを1回クリックするだけで、多孔質シリコンの層厚、インデックス、空隙率を明らかにする独自の分析アルゴリズムが含まれています。

シリコンウェーハおよび膜厚の測定

Filmetrics^®システムには、シリコンウェーハの厚さ測定および膜厚測定用の卓上型、マッピング型、生産用システムがあります。一般的に測定されるウェーハ材料には、片面研磨または両面研磨Si（シリコン）、サファイア、フューズドシリカ、SiC、LiTaO₃、GaN、ガラスが含まれます。

当社の技術専門家が、さまざまな膜厚範囲のニーズやシングルスポット測定とマッピングの要件など、お客様のご要望件に合った最適なFilmetrics測定システムをご提案いたします。